Reconstructive Mask 200ml - Un masque au pH légèrement acide et de faible poids moléculaire qui récupère en profondeur les cheveux du cortex à la cuticule et améliore sa résistance aux dommages futurs et aux déchirures.

Mode d'emploi:

Appliquer sur les cheveux propres et humides, démêler, laisser poser 5mn. Ne pas rincer. Superposer avec le masque 3.

Ingrédients:

Aqua (Water), Glycerin, Cetearyl Alcohol, Isopropyl Palmitate, Cetrimonium Chloride, Alcohol, Panthenol, Soybean Glycerides, Parfum (Fragrance), Phenoxyethanol, Behentrimonium Chloride, Butyrospermum Parkii Butter (Insaponifiable), PEG-40/PPG-8 Methylaminopropyl/ Hydroxypropyl Dimethicone Copolymer, Cyclodextrin, Keratin Amino Acids, Sodium PCA, Sodium PCA, Sodium Lactate, Arginine, Isopropyl Alcohol, Ethylhexyl, Methoxycinnamate, Dipropylene Glycol, Aspartic Acid, BHT, Disodium EDTA, Coffea Arabica Seed Oil (Coffee), PCA, Caprylyl Glycol, Ethylhexyl Triazone, Isodecyl Neopentanoate, Isocetyl Alcohol, Quaternium-70,  Citric Acid, Glycine, Amodimethicone, Behenyl Alcohol, Benzophenone-3, DimethylPABAmidopropyl Laurdimonium Tosylate, Disodium Lauriminodipropionate Tocopheryl Phosphates, Hydroxyethyl, Cetera Amidopropyl Dimonium Chloride, Propylene Glycol, Alanine, Serine, Valine, Butylene, Glycol, Xylitol, Sec-Pareth-7, Lauroyl Lysine, Hydrolyzed Pearl, Histidine, Phenylalanine, Gluconolactone, Ethylhexylglycerin, Potassium Benzoate, Sodium Benzoate, Ascorbyl Palmitate, Calcium Gluconate, Butylphenyl Methylpropional, Linalool, Hexyl Cinnamal, D-Limonene.